[发明专利]一种抵抗形变的图像匹配方法有效

专利信息
申请号: 201410373199.2 申请日: 2014-07-31
公开(公告)号: CN104156952B 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 王亮;黄永祯;曹迪 申请(专利权)人: 中国科学院自动化研究所
主分类号: G06T7/33 分类号: G06T7/33
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种抵抗形变的图像匹配方法,该方法包括以下步骤步骤1对两幅输入图像分别进行二值化处理,从中确定参考图像与待匹配图像,对于参考图像与待匹配图像,利用不同的采样间距进行采样,得到相应的多个采样点;步骤2从待匹配图像的采样点中依次确定每个参考图像采样点的K1个候选对应点;步骤3从参考图像中每个采样点的K1个候选对应点中确定K2个更为精细的候选对应点,其中,K2<K1;步骤4运用偏移量准则,从参考图像中每个采样点的K2个候选对应点中确定一个精确的对应点。本发明运用了图像的全局信息,同时充分利用形变图像的局部特征并结合偏移量准则逐级缩小范围,对于各种形变图像表现出很好的匹配效果。
搜索关键词: 一种 抵抗 形变 图像 匹配 方法
【主权项】:
一种抵抗形变的图像匹配方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤1:对两幅输入图像分别进行二值化处理,并从中确定参考图像与待匹配图像,对于所述参考图像与待匹配图像,利用不同的采样间距进行采样,得到相应的多个采样点;步骤2:从待匹配图像的采样点中依次确定每个参考图像采样点的K1个候选对应点;步骤3:从所述参考图像中每个采样点的K1个候选对应点中确定K2个更为精细的候选对应点,其中,K2<K1;步骤4:运用偏移量准则,从所述参考图像中每个采样点的K2个候选对应点中确定一个精确的对应点,完成图像的匹配;所述步骤1进一步包括以下步骤:步骤1a:采用OSTU算法对于输入图像进行二值化处理,得到相应的二值化图像;步骤1b:将两幅二值化图像分别确定为参考图像和待匹配图像;步骤1c:对于所述参考图像,分别以采样间距d1和d2进行采样,对于所述待匹配图像,分别以采样间距d1和d3进行采样,其中,d1<d3<d2,得到d1‑采样点、d2‑采样点和d3‑采样点;所述步骤2进一步包括以下步骤:步骤2a:分别以所述参考图像中的d2‑采样点和待匹配图像中的d3‑采样点为圆心,以R为半径建立圆形区域;步骤2b:针对每个圆形区域生成对数极坐标直方图;步骤2c:将所述参考图像中每个d2‑采样点的直方图依次与待匹配图像中所有d3‑采样点的直方图进行匹配,从待匹配图像的d3‑采样点中选出K1个候选对应点;所述步骤3进一步包括以下步骤:步骤3a:分别以参考图像中d2‑采样点和相应的K1个候选对应点为圆心,以Rs为半径建立圆形区域,其中,Rs<R;步骤3b:提取圆形区域内表征物体的d1‑采样点,并根据其距离每个圆心的距离建立距离矩阵;步骤3c:对于得到的距离矩阵进行归一化,并依次运用EMD判断距离矩阵之间的相似性;步骤3d:对每个采样点和相应候选对应点对应的距离矩阵之间的相似性进行排序,从K1个候选对应点中选取前K2个点作为更为精细的候选对应点,其中K2<K1。
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