[发明专利]基板处理设备

摘要

提供一种基板处理设备。该基板处理设备包括处理容器，所述处理容器具有开口的上部；基板加热单元，所述基板加热单元在支撑基板时，加热设置在所述处理容器中的所述基板；以及处理溶液供应单元，所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上的所述基板上。所述基板加热单元包括可旋转的卡盘台，在所述卡盘台上放置所述基板；具有中空形状的旋转部件，所述旋转部件被耦合到所述卡盘台以旋转所述卡盘台；以及热产生部件，所述热产生部件设置在所述卡盘台中。

主权项

一种基板处理设备，其特征在于，包括：处理容器，所述处理容器具有开口的上部；基板加热单元，所述基板加热单元在支撑基板的同时，加热设置在所述处理容器中的所述基板；以及处理溶液供应单元，所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上的所述基板上，其中所述基板加热单元包括：可旋转的卡盘台，在所述卡盘台上放置所述基板；旋转部件，所述旋转部件具有中空形状，所述旋转部件被耦合到所述卡盘台以旋转所述卡盘台；以及热产生部件，所述热产生部件同心地布置在所述可旋转的卡盘台的上表面，温度传感器组件，所述温度传感器组件设置在各自的热产生部件与所述可旋转的卡盘台之间，以使得所述温度传感器组件直接位于各自的热产生部件的下面，所述温度传感器组件包括：温度传感器元件和安装所述温度传感器元件的支撑板，以及通孔，所述通孔面对所述支撑板，冷却气体可通过所述通孔冷却所述温度传感器组件。