[发明专利]一种双功率模式包络跟踪方法有效

专利信息
申请号: 201410374570.7 申请日: 2014-07-31
公开(公告)号: CN104124930B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 朱新宁;吴勇彬;曾志民;李欣书林;冯春燕 申请(专利权)人: 北京邮电大学;罗德与施瓦茨(中国)科技有限公司
主分类号: H03F3/20 分类号: H03F3/20;H03F1/32
代理公司: 北京永创新实专利事务所11121 代理人: 赵文颖
地址: 100876 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双功率模式包络跟踪方法,包括以下几个步骤步骤1获取最大PAE整形表和恒定增益整形表;步骤2通过误差矢量幅度不超过阈值EVMth,来获得功率区域分界点P′o;步骤3确定恒定增益整形方法的最低增益值Glow,最高增益值Ghigh;步骤4采用恒定增益整形方法时,放大器在高功率区域使用低增益值Glow,低功率区域使用高增益值Ghigh,来分别获得最好的性能。本发明在不同的功率区域选用不同恒定增益值的恒定增益整形方法,使低功率区域,此时效率也较低,提高线性性能;在高功率区域,满足一定线性的条件下,尽可能的提高效率。
搜索关键词: 一种 功率 模式 包络 跟踪 方法
【主权项】:
一种双功率模式包络跟踪方法,包括以下几个步骤:步骤1:获取最大PAE整形表和恒定增益整形表;采用单音仿真,扫描不同放大器的偏置电压,获得放大器射频特性,射频特性包括功率附加效率、增益,然后得到最大PAE整形表和恒定增益整形表,即检测到的输入功率和偏置电压的关系;其中,采用最大PAE整形方法,获取最大PAE整形表,采用恒定增益整形方法,获取恒定增益整形表;步骤2:通过误差矢量幅度不超过阈值EVMth,来获得功率区域分界点P′o;P′o=min{Po|EVM(PO,G)≤EVMth}其中,EVM(PO,G)是在不同输出功率和增益下的EVM,其中EVM为误差矢量幅度,阈值EVMth通过对放大器非线性的要求确定;步骤3:确定恒定增益整形方法的最低增益值Glow,最高增益值Ghigh;设置恒定增益整形方法的最低增益值Glow为最大PAE整形方法所能达到的最大增益:Glow=max(Gk*),k=1,...,n]]>恒定增益整形方法的最高增益值Ghigh由放大器所能达到的最大增益值确定:Ghigh=max(G(Vk,Po)),k=1,...,n其中,G(Vk,Po)为在电压为Vk、输出功率为Po时,放大器所能达到的增益;步骤4:采用恒定增益整形方法时,放大器在高功率区域使用低增益值Glow,低功率区域使用高增益值Ghigh,来分别获得最好的性能。
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