[发明专利]一种高取向高强度的阵列牵伸碳纳米管薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410382307.2 申请日: 2014-08-06
公开(公告)号: CN104176722A 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 李敏;王艳洁;李清文;顾轶卓;张永毅;王绍凯;张佐光 申请(专利权)人: 北京航空航天大学;苏州捷迪纳米科技有限公司
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 北京永创新实专利事务所 11121 代理人: 姜荣丽
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种高取向高强度的阵列牵伸碳纳米管薄膜及其制备方法,该制备方法首先准备可纺丝的碳纳米管阵列,然后由所述可纺丝的碳纳米管阵列采用阵列拉膜法卷绕制备干纺的取向碳纳米管薄膜,然后采用溶剂浸渍-蒸干的方法提高致密化及取向,最后对碳纳米管薄膜进行压实处理,得到高取向高强度的阵列牵伸碳纳米管薄膜。本发明提供的制备方法操作简单、可控性强,所制备高取向高强度的阵列牵伸碳纳米管薄膜具有独特的内部聚集态结构和优异的力学性能,在结构材料、电子器件、太阳能电池等领域极具发展潜力和应用价值。
搜索关键词: 一种 取向 强度 阵列 牵伸 纳米 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种高取向高强度的阵列牵伸碳纳米管薄膜的制备方法,其特征在于:首先准备碳纳米管阵列;然后采用阵列拉膜法将碳纳米管阵列制备成干纺的取向碳纳米管薄膜;溶剂浸渍‑蒸干法对所述的干纺的取向碳纳米管薄膜进行致密化及取向处理;最后进行压实处理,得到高取向高强度的碳纳米管薄膜。
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