[发明专利]感光基板的曝光方法在审
| 申请号： | 201410382647.5 | 申请日： | 2014-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN105334701A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 周坤麟;何立克 | 申请（专利权）人： | 叙丰企业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 宋菲;刘云贵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种感光基板的曝光方法，首先提供平面发光源，其具有至少三个发光体；之后提供底片，面向该平面发光源的照射面；接着提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；之后使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。借此，本发明的感光基板的曝光方法可使感光基板均匀曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种感光基板的曝光方法，其特征在于，包含下列步骤：S1.提供平面发光源，其具有至少三个发光体；S2.提供底片，面向该平面发光源的照射面；S3.提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；以及S4.使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。
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