[发明专利]用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410383896.6 申请日: 2014-08-06
公开(公告)号: CN104174445A 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 许利苹;陈艳霞;王树涛 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;G01N21/64;G01N21/25
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面及其制备方法。将洁净的基片以恒定的速度于蜡烛火焰上方反复平移,在基片表面物理沉积得到一定厚度均匀分布的炭纳米层,以此为模板化学气相沉积二氧化硅,得到二氧化硅包覆炭颗粒的纳米复合结构;高温煅烧去除炭核,从而得到均匀的具有微米厚度的空心纳米二氧化硅层;等离子体处理纳米二氧化硅表面后,采用单分子膜自组装法,在其表面修饰硅烷化试剂;再覆盖上圆形的光掩模板,采用光刻技术紫外光降解未覆盖区域的硅烷化试剂,得到用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面。本发明超亲水微井利用其图案化的定点限域可控的优点,对极稀溶液微液滴具有良好的浓缩富集效果,可用于目标分子的实时痕量检测。
搜索关键词: 用于 富集 痕量 检测 超亲水微井 传感 界面 及其 制备 方法
【主权项】:
一种用于富集和痕量检测的超亲水微井传感界面,其特征是,所述的微井区域(1)是由纳米二氧化硅层构筑的超亲水区,微井周围(2)是在纳米二氧化硅层表面修饰低表面能硅烷化试剂后得到的的超疏水区,液滴在微井中被限域;微井的形状、尺寸取决于光掩膜板的形状、尺寸;微井的深度即二氧化硅基底的厚度是5μm~15μm;作为超亲水微井的载体选自耐高温熔点>550℃的基片,为透明的玻璃片、石英片;不透明的硅片、陶瓷、铜片、铁片、铝片、钛片中的一种。
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