[发明专利]一种耐冲击三维石墨烯薄膜的制作方法有效
| 申请号： | 201410391732.8 | 申请日： | 2014-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN105331932B | 公开（公告）日： | 2017-12-01 |
| 发明（设计）人： | 谭彬;兰育辉 | 申请（专利权）人： | 湖南元素密码石墨烯高科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44;C23C16/01;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 410000 湖南省长沙市*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种耐冲击三维石墨烯薄膜的制作方法，包括以下步骤（1）选取陶瓷、金属或非金属基板作为基材，采用纳米压印工艺，在基材的表面制取有序排列的、纳米尺寸的网状立体结构层，并将石墨烯粉体均匀分布于网状立体结构层表面；（2）在真空工作环境下，采用沉积法将至少一种材料薄膜沉积于石墨烯粉体的表面，使沉积的材料薄膜、石墨烯粉体与网状立体结构层、基材之间形成一种连续的复合薄膜；（3）重复多次步骤（1）~步骤（2），最后经热压成型制成耐冲击三维石墨烯薄膜。本发明所制得的三维石墨烯薄膜具有高透光、高耐冲击、耐磨擦、耐候性和散热、导电等综合性能，适用范围是十分广泛。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冲击 三维 石墨 薄膜 制作方法 | ||
【主权项】：
一种耐冲击三维石墨烯薄膜的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）选取金属或非金属基板作为基材，采用纳米压印工艺，在基材的表面制取有序排列的、纳米尺寸的网状立体结构层，并将石墨烯粉体均匀分布于网状立体结构层表面；（2）在真空工作环境下，采用沉积法将至少一种材料薄膜沉积于石墨烯粉体的表面，使沉积的材料薄膜、石墨烯粉体与网状立体结构层、基材之间形成一种连续的复合薄膜；（3）重复多次步骤（1）~步骤（2），最后经热压成型制成耐冲击三维石墨烯薄膜。
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