[发明专利]数控水磨配套清洗桌在审
| 申请号： | 201410415331.1 | 申请日： | 2014-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN104190662A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 王仲伟;季明其;杨加华 | 申请（专利权）人： | 优德精密工业(昆山)股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215316 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶部水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封漏斗。本发明提供的数控水磨配套清洗桌，结构简单，清洗方便，省时省力，节约耗材；可有效提高工作效率及工作环境整洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 数控 水磨 配套 清洗 | ||
【主权项】：
一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，其特征在于：还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶部水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封漏斗。
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