[发明专利]确定稀疏微波成像方位向采样序列的方法有效
| 申请号： | 201410415740.1 | 申请日： | 2014-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN104142500A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 蒋成龙;赵曜;张冰尘;洪文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电子学研究所 |
| 主分类号： | G01S13/89 | 分类号： | G01S13/89 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹玲柱 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种确定稀疏微波成像方位向采样序列的方法。该方法包括：步骤A：由稀疏微波成像系统的指标要求确定其方位向采样率fp；步骤B：根据方位向采样率fp确定稀疏微波成像方位向采样优化准则；以及步骤C，根据稀疏微波成像方位向采样优化准则，基于模拟退火的采样序列优化算法确定方位向采样序列。本发明利用采样策略优化准则可以指导稀疏微波成像方位向的优化与设计，稀疏微波成像利用优化后的方位向采样方式获取回波数据，可以提高稀疏微波成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 稀疏 微波 成像 方位 采样 序列 方法 | ||
【主权项】：
一种确定稀疏微波成像方位向采样序列的方法，其特征在于，包括：步骤A：由稀疏微波成像系统的指标要求确定其方位向采样率fp；步骤B：根据方位向采样率fp确定稀疏微波成像方位向采样优化准则；以及步骤C，根据稀疏微波成像方位向采样优化准则，基于模拟退火的采样序列优化算法确定方位向采样序列。
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