[发明专利]使用电子束的图案化方法和配置为执行该方法的曝光系统有效
| 申请号： | 201410418906.5 | 申请日： | 2014-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN104423179B | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 郑镛席;李祥熙 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 胡江海;韩明星 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种使用电子束的图案化方法和被配置为执行所述方法的曝光系统。所述图案化方法可采用诸如电子束(E‑束)的粒子束以及曝光系统，所述图案化方法可包括：准备限定E‑束的空间分布的曝光布置；基于曝光布置对掩模层执行E‑束曝光工艺；对掩模层执行显影工艺，以形成包括第一图案的掩模图案。第一图案可以是单个固体图案，曝光布置可包括与针对与第一图案对应的第一区域限定的多个E‑束条件关联的第一数据。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 电子束 图案 方法 配置 执行 曝光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种形成用于固态器件的图案的方法，所述方法包括：从设计布置准备限定电子束的空间分布的曝光布置，基于曝光布置对掩模层执行电子束曝光工艺，对掩模层执行显影工艺，以形成包括第一图案的掩模图案，其中，第一图案是单个固体照射图案，其中，曝光布置包括第一数据，第一数据包括针对第一区域限定的多个电子束强度，第一图案将由所述多个电子束强度形成在第一区域中，其中，第一区域包括非曝光区域和多个曝光区域，其中，所述多个曝光区域中的至少一对相邻曝光区域彼此隔开，非曝光区域的一部分位于所述一对相邻曝光区域之间，其中，所述限定的多个电子束强度包括被应用到所述多个曝光区域的至少两种不同的剂量。
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