[发明专利]用于检测等离子处理室中激发步骤的电容耦合静电(CCE)探针装置及其方法无效
申请号: | 201410422254.2 | 申请日: | 2009-07-07 |
公开(公告)号: | CN104320899A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 杰-保罗·布斯;道格拉斯·L·凯尔 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H05H1/00 | 分类号: | H05H1/00 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供一种识别等离子处理系统的处理室内稳定的等离子的方法。该方法包括在该处理室内执行激发步骤以生成等离子。该激发步骤包括在该处理室内施加相当高气压并在该处理室内维持低射频(RF)功率。该方法还包括采用探针头以采集一组激发步骤过程中的特性参数测量值,该探针头在处理室的表面上,其中该表面非常接近衬底表面。该方法进一步包括将该组特性参数测量值与预定的范围对比。如果该组特性参数测量值在预定的范围内,则存在稳定的等离子。 | ||
搜索关键词: | 用于 检测 等离子 处理 激发 步骤 电容 耦合 静电 cce 探针 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种识别等离子处理系统的处理室内稳定的等离子的系统,包括:装置,用于在所述处理室执行实际蚀刻步骤之前的激发步骤以生成等离子,其中所述装置包括装置,用于在所述处理室内施加高的气压以确保等离子引发,以及装置,用于在所述处理室内维持比实际蚀刻过程中的射频功率低的射频(RF)功率;装置,用于采用探针头以采集一组所述激发步骤过程中的特性参数测量值,通过监测所述特性参数测量值,检测等离子激发的信号阶跃特征,所述探针头在所述处理室的表面上,其中所述表面靠近衬底表面;以及装置,用于将该组特性参数测量值与预定的范围对比,如果该组特性参数测量值不在所述预定的范围内,则所述等离子不稳定并且应用校正动作,如果该组特性参数测量值在所述预定的范围内,则存在所述稳定的等离子且所述激发步骤结束,从而检测所述激发步骤是否成功并最小化执行所述激发步骤所需的持续时间。
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