[发明专利]存储阵列的擦除方法有效

专利信息
申请号: 201410425720.2 申请日: 2014-08-26
公开(公告)号: CN104183274B 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 胡剑;杨光军 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 骆苏华,吴敏
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种存储单元及存储阵列的擦除方法。所述存储单元包括P型阱区、漏极、源极、第一控制栅极、第二控制栅极以及中间电极,所述存储单元的擦除方法包括施加第一偏置电压至所述P型阱区;施加第二偏置电压至所述漏极;施加第三偏置电压至所述源极;施加‑6V~‑8V电压至所述第一控制栅极;施加‑6V~‑8V电压至所述第二控制栅极;施加8V~9V电压至所述中间电极;所述第一偏置电压的电压值为负,且所述第一偏置电压的电压值、所述第二偏置电压的电压值以及所述第三偏置电压的电压值相等。本发明提供的存储单元及存储阵列的擦除方法,提高了存储器的耐久性。
搜索关键词: 存储 阵列 擦除 方法
【主权项】:
一种存储阵列的擦除方法,所述存储阵列包括M条字线、M条第一控制栅线、M条第二控制栅线、N条位线、N条源线以及M行、N列呈阵列排布的存储单元,M、N为正整数;所述存储单元包括P型阱区、漏极、源极、第一控制栅极、第二控制栅极以及中间电极,第m行存储单元的中间电极均连接第m条字线,第m行存储单元的第一控制栅极均连接第m条第一控制栅线,第m行存储单元的第二控制栅极均连接第m条第二控制栅线,第n列存储单元的漏极均连接第n条位线,第n列存储单元的源极均连接第n条源线,1≤m≤M,1≤n≤N;所述存储阵列的擦除方法包括:施加第一偏置电压至待擦除存储单元的P型阱区;施加第二偏置电压至与所述待擦除存储单元连接的位线;施加第三偏置电压至与所述待擦除存储单元连接的源线;施加‑6V~‑8V电压至与所述待擦除存储单元连接的第一控制栅线;施加‑6V~‑8V电压至与所述待擦除存储单元连接的第二控制栅线;施加8V~9V电压至与所述待擦除存储单元连接的字线;施加0V电压至未与所述待擦除存储单元连接的位线;施加0V电压至未与所述待擦除存储单元连接的源线;施加0V电压至未与所述待擦除存储单元连接的第一控制栅线;施加0V电压至未与所述待擦除存储单元连接的第二控制栅线;施加0V电压至未与所述待擦除存储单元连接的字线;所述第一偏置电压的电压值为负,且所述第一偏置电压的电压值、所述第二偏置电压的电压值以及所述第三偏置电压的电压值相等。
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