[发明专利]自旋处理装置有效

专利信息
申请号: 201410431485.X 申请日: 2014-08-28
公开(公告)号: CN104425235B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 古矢正明 申请(专利权)人: 芝浦机械电子株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;B05C13/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐冰冰;刘杰
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供自旋处理装置,能够抑制朝基板侧的液体反弹并且实现装置的小型化以及轻量化。实施方式所涉及的自旋处理装置(1)具备:液体承接部(6),以从旋转的基板(W)的外周离开并包围该旋转的基板的方式形成为环状,承接并收纳从该旋转的基板(W)飞散的液体;杯体(3),以从该液体承接部(6)的外周离开并包围该液体承接部的方式形成为环状,且形成用于从液体承接部(6)的上表面沿着外周面产生气流的环状的外侧排气流路(A2);以及分隔部件(7),设置于液体承接部(6)的环内且形成为环状,形成用于从液体承接部(6)的内周面沿着下表面产生气流的环状的内侧排气流路(A1)。
搜索关键词: 自旋 处理 装置
【主权项】:
1.一种自旋处理装置,使基板旋转并对所述基板进行处理,其特征在于,具备液体承接部,所述液体承接部以从旋转的基板的外周离开并包围所述旋转的基板的方式形成为环状,承接并收纳从所述旋转的基板飞散的液体,所述液体承接部具备多个倾斜板材,所述多个倾斜板材单独地设置于所述液体承接部的内周面,以沿着所述基板的旋转方向逐渐降低的方式分别倾斜,承接从所述旋转的基板飞散的液体,所述多个倾斜板材以从所述旋转的基板飞散的液体不会与所述液体承接部的内周面碰撞的方式在所述液体承接部的内周面的周向上排列,所述液体承接部的上端部以遍及所述液体承接部的整周而朝内侧倾斜的方式形成,所述多个倾斜板材形成为延伸至所述上端部的内周面。
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