[发明专利]光致酸生成剂、光刻胶、涂覆的基材以及形成电子器件的方法

摘要

一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中，n是0或1；以及R¹‑R⁶各自独立地是氢、卤素、未取代或取代的C_1‑20直链或支链烷基、C_3‑20环烷基、C_6‑20芳基、C_3‑20杂芳基或具有以下结构的酸生成基团：其中L是未取代或取代的C_1‑50二价基团；Z^‑是单价阴离子基团；M⁺是碘鎓离子或锍阳离子。成对的R基团可与它们所相连的碳结合以形成环，只要形成的这种环不超过两个即可。R¹‑R⁶中的至少一个包括酸生成基团，或者两个成对的R基团结合形成酸生成基团。本发明还描述了包含所述光致酸生成剂化合物的光刻胶组合物、包含所述光刻胶组合物的层的涂覆的基材，以及使用所述光刻胶组合物的层形成电子器件的方法。

主权项

1.一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中n是0或1；以及R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶各自独立地是氢、卤素、未取代或取代的C_1‑20直链或支链烷基、未取代或取代的C_3‑20环烷基、未取代或取代的C_6‑20芳基、未取代或取代的C_3‑20杂芳基或具有以下结构的单价基团：其中L是未取代或取代的C_1‑50二价基团；Z^‑是选自下组的单价阴离子基团：羧酸根、硫酸根、磺酸根、氨基磺酸根、磺酰胺根以及磺酰亚胺根；M⁺是选自二取代的碘鎓离子和三取代的硫鎓离子的阳离子；其中R¹和R²可结合起来形成环和/或R³和R⁴可结合起来形成环和/或R⁵和R⁶可结合起来形成环，由R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶总共形成不超过两个环，并且R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶中的一个具有以下结构或者R¹和R²结合起来形成以下结构：或者R³和R⁴结合起来形成以下结构：或者R⁵和R⁶结合起来形成以下结构：