[发明专利]一种黑色吸光薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410432517.8 | 申请日： | 2014-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN104195518A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 敖献煜;王许月;薛亚莉 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/20;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 黄磊;张燕玲 |
| 地址： | 510006 广东省广州市番*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于光学技术领域，公开了一种黑色吸光薄膜及其制备方法。具体包括以下步骤：(1)采用金属或聚合物复制含锥尖阵列的模板并剥离，得到锥尖阵列金属基底或锥尖阵列聚合物基底；(2)采用磁控溅射的方法，在锥尖阵列金属基底或锥尖阵列聚合物基底上依次溅射铁薄膜和保护层，得到黑色吸光薄膜。所制备的黑色吸光薄膜具有较高的吸收率，在300～1000nm波段的吸收在98％以上，1000～2000nm波段的吸收在96％以上；而以柔性聚合物为基底的黑色吸光薄膜，可作为减反射贴膜，用以降低不适宜发黑处理器件的反射率。另外，本发明所制备的模板可重复使用，工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 黑色 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种黑色吸光薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下具体步骤：(1)采用金属或聚合物复制含锥尖阵列的模板并剥离，得到锥尖阵列金属基底或锥尖阵列聚合物基底；(2)采用磁控溅射的方法，在锥尖阵列金属基底或锥尖阵列聚合物基底上依次溅射铁薄膜和保护层，得到黑色吸光薄膜。
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