[发明专利]一种观测一维纳米材料的方法及装置有效
申请号: | 201410434514.8 | 申请日: | 2014-08-29 |
公开(公告)号: | CN105445227B | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 武文贇;岳菁颖;林晓阳;赵清宇;姜开利;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01N21/47 | 分类号: | G01N21/47;G01N21/63 |
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摘要: | 本发明涉及一种原位观测一维纳米材料的方法,包括以下步骤:S1、提供一待测一维纳米材料;S2、将所述一维纳米材料浸没于耦合液中;S3、提供一束具有连续光谱的白色入射光,所述一维纳米材料在该入射光的照射下发生共振瑞利散射;S4、利用物镜为水镜的光学显微镜观测该一维纳米材料,观测时该水镜浸没于所述耦合液中。本发明还涉及一种利用该方法观测一维纳米材料的装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 观测 纳米 材料 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种观测一维纳米材料的方法,包括以下步骤:S1提供一待测一维纳米材料;S2将所述一维纳米材料完全固定于一基体表面,并将该基体与所述一维纳米材料一同浸没于耦合液中,所述耦合液置于一水槽中,所述水槽包括一底面以及至少一透明侧面,所述至少一透明侧面与所述底面的夹角α取值范围为45°≤α<90°;S3提供一束具有连续光谱的白色入射光,该入射光通过所述至少一透明侧面射向所述一维纳米材料,所述一维纳米材料在该入射光的照射下发生共振瑞利散射;S4利用物镜为水镜的光学显微镜观测该一维纳米材料,观测时该水镜浸没于所述耦合液中。
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