[发明专利]一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法无效
| 申请号： | 201410434688.4 | 申请日： | 2014-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN104191352A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 孙晨光;曲涛;魏艳军;王力 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 王凤英 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法。使用有蜡贴片机将硅片贴在陶瓷盘上进行抛光；抛光过程包括粗抛光、中抛光和精抛光；抛光机所使用的粗抛光液、中抛光液和精抛光液温度控制在20-30℃范围内，整个抛光过程中的大盘温度控制在40-60℃范围内；抛光液每使用6-8h更换一次；每抛光40min后，使用圆盘刷对抛光机大盘进行刷洗5min；定期检测和修整抛光机大盘表面平整度，最终保证大盘表面平整度≤1.5μm。采取本抛光方法，抛光垫的使用寿命从50h延长到70h左右。从而解决了抛光垫使用寿命短的问题，降低了硅片抛光的加工成本，提高了劳动生产率，一次合格率仍然可以稳定达到90％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 抛光 使用寿命 单晶硅 晶圆片 方法 | ||
【主权项】：
一种提高抛光垫使用寿命的单晶硅晶圆片抛光方法，其特征在于：使用有蜡贴片机将硅片贴在陶瓷盘上进行抛光；抛光过程包括粗抛光、中抛光和精抛光；抛光机所使用的粗抛光液、中抛光液和精抛光液温度控制在20‑30 ℃ 范围内，整个抛光过程中的大盘温度控制 在40‑60℃范围内；粗抛光液、中抛光液和精抛光液每使用6‑8h更换一次；抛光过程中，每抛光40min后，使用圆盘刷对抛光机大盘进行刷洗5min；定期检测和修整抛光机大盘表面平整度，最终保证大盘表面平整度≤1.5μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津中环领先材料技术有限公司;，未经天津中环领先材料技术有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410434688.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于光滑板面金属件加工的旋转工作台
- 下一篇：一种数控车床用排屑装置
