[发明专利]一种用于缺陷分类的光学检测方法

摘要

本发明涉及集成电路技术领域，尤其是涉及到一种用于缺陷分类的光学检测方法，通过设定一合适的缺陷检测设备的缺陷检测灵敏度，并调用该光学缺陷检测设备对灰阶化以及标识后的栅极、有源区和氧化层隔离区进行缺陷检测，并根据缺陷位于不同程度的灰阶判断缺陷在静态存储器的上对应的位置同时进行分类，因此，在线的光学缺陷检测能够根据缺陷在静态存储器的上面的位置进行准确全面的分类，从而可以对器件的失效模式的研究和缺陷的成因分析带了极大的便利。

主权项

一种用于缺陷分类的光学检测方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S1、提供一具有集成电路版图的待测晶圆，所述集成电路版图包括栅极、有源区和氧化层隔离区；步骤S2、调用一检测设备获取所述集成电路版图的电子图像，并对栅极、有源区和氧化层隔离区进行标识；步骤S3、调用一光学缺陷检测设备获取所述集成电路版图的灰阶化图像，并根据标识后的电子图像对灰阶化的栅极、有源区和氧化层隔离区进行标识；步骤S4、继续利用所述光学缺陷检测设备检测灰阶化的栅极、有源区和氧化层隔离区中存在的缺陷，并对缺陷予以分类；其中，所述灰阶化图像包括三种不同程度的灰阶区域，具体为亮色灰阶、灰色灰阶和黑色灰阶；步骤S3中，获取所述集成电路版图的灰阶化图像后，所述栅极、有源区和氧化层隔离区的灰阶程度不同；步骤S4中，利用所述光学缺陷检测设备检测缺陷之前，还包括设定所述光学缺陷检测设备的缺陷检测灵敏度；调用所述光学缺陷检测设备并设定合适的缺陷检测灵敏度检测所述栅极、有源区和氧化层隔离区中的缺陷，使其更清晰检测并识别出缺陷位于不同灰阶程度上对应的结构，进而对缺陷进行分类统计。