[发明专利]一种用于大曲率透镜表面的0.532微米与1.064微米倍频减反射膜

摘要

本发明提出用于大曲率透镜表面的0.532微米与1.064微米倍频减反射膜，包括透明基片和减反射膜系，减反射膜系由高折射率介质膜层和低折射率膜层交替叠加的12个膜层构成，适用于曲率半径与口径之比不小于1的大曲率透镜表面，且具有较高的玻璃基底适应性，对由于不同镀膜机参数不同而引起的高折射率镀膜材料折射率n有较大的容限，稳定性高。即基底折射率适用于1.46～1.60、高折射率材料Ta₂O₅折射率n＝1.946～2.126，均满足大曲率光学零件表面各点的光学性能在0.532μm与1.064μm波长处剩余反射率优于0.4％的良好效果。

主权项

一种用于大曲率透镜表面的0.532微米与1.064微米倍频减反射膜，包括透明基片和减反射膜系，其特征在于：所述减反射膜系由高折射率介质膜层和低折射率膜层交替叠加的12个膜层构成，其中，第一膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度11.8nm，第一膜层镀制在所述透明基片的表面上；第二膜层为SiO₂膜，膜层厚度34.5nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度128.5nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为SiO₂膜，膜层厚度15.2nm，并镀制在所述第三膜层上；第五膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度48.3nm，并镀制在所述第四膜层上；第六膜层为SiO₂膜，膜层厚度30.8nm，并镀制在所述第五膜层上；第七膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度65.1nm，并镀制在所述第六膜层上；第八膜层为SiO₂膜，膜层厚度189.9nm，并镀制在所述第七膜层上；第九膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度131nm，并镀制在所述第八膜层上；第十膜层为SiO₂膜，膜层厚度47.9nm，并镀制在所述第九膜层上；第十一膜层为Ta₂O₅膜，膜层厚度39.8nm，并镀制在所述第十膜层上；第十二膜层为SiO₂膜，膜层厚度130.2nm，并镀制在所述第十一膜层上。