[发明专利]用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法有效
申请号: | 201410443204.2 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN104195506B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 罗德福;漆世荣 | 申请(专利权)人: | 成都伍田机械技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C12/00 | 分类号: | C23C12/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 611400 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于光轴加工技术领域,具体而言,涉及一种用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法包括以下步骤(1)将光轴放入空气加热炉,在300‑450℃下,预热20‑40min(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在550‑630℃下经氮碳镧离子渗剂渗入处理90‑150min(3)接着放入离子活化炉,在450‑550℃下经离子活化渗剂渗入处理30‑90min(4)再放入氧离子渗入炉,在370‑430℃下经氧离子渗剂渗入处理15‑30min(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120‑200℃下进行离子稳定化处理20‑50min(7)将处理后的光轴浸油处理。 | ||
搜索关键词: | 用于 提高 光轴 耐蚀性 耐磨性 方法 | ||
【主权项】:
用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将光轴放入空气加热炉,在300‑450℃下,预热20‑40min;(2)将预热后的光轴放入氮碳镧离子渗入炉,在590‑630℃下经氮碳镧离子渗剂渗入处理80‑100min;其中,所述氮碳镧离子渗剂按重量百分比计,由以下组分混合制成:Na2CO3 10%‑15%,K2CO3 10%‑20%,NaCNO55%‑65%,CeCO3 1%‑3%,Li2CO3 5%‑10%,La2CO3 0.03‑1%;(3)接着放入离子活化炉,在450‑550℃下经离子活化渗剂渗入处理30‑90min;(4)再放入氧离子渗入炉,在370‑430℃下经氧离子渗剂渗入处理15‑30min;(5)将光轴表面的渗剂清洗干净后并干燥处理;(6)放入盛装离子稳定剂的离子稳定化炉,在120‑200℃下进行离子稳定化处理20‑50min;(7)将处理后的光轴浸油处理;其中,将所述光轴进行预热之前,还包括将所述光轴的表面清洗干净;所述光轴在400‑450℃下预热30‑35min。
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