[发明专利]用于形成SRAM鳍部的掩膜版组件以及鳍部的制作方法

摘要

本申请公开了一种用于形成SRAM鳍部的掩膜版组件以及鳍部的制作方法。该掩膜版组件包括第一掩膜版和第二掩膜版，其中第一掩膜版包括至少两组第一图形单元，每组第一图形单元包括第一光阻挡区和第一光透过区；第二掩膜版包括与每组第一图形单元的位置对应设置的第二图形单元，每组第二图形单元包括第三光透过区和第三光阻挡区，其中，第一掩膜版还包括：第二光阻挡区，设置于相邻第一图形单元之间；第二光透过区，设置于相邻第一图形单元之间；第二掩膜版还包括：第四光透过区，与第二光阻挡区的位置对应设置；第四光阻挡区，设置于相邻第二图形单元之间，且位于第四光透过区的两侧。该掩膜版组件中图形的均匀性得以提高。

主权项

一种用于形成SRAM鳍部的掩膜版组件，包括第一掩膜版和第二掩膜版，其中：所述第一掩膜版包括至少两组第一图形单元，每组所述第一图形单元包括多个平行设置的第一光阻挡区和相应地设置于相邻所述第一光阻挡区之间的多个第一光透过区；所述第二掩膜版包括与每组所述第一图形单元的位置对应设置的第二图形单元，每组所述第二图形单元包括多组第二图形子单元，每组所述第二图形子单元包括沿所述第一光透过区的延伸方向交替设置在与所述第一光透过区相对应的位置上的第三光透过区和第三光阻挡区，且每组所述第二图形子单元的两端分别延伸至与所述第一光透过区相邻的第一光阻挡区上，其特征在于，所述第一掩膜版还包括：第二光阻挡区，与所述第一光阻挡区平行地设置于相邻所述第一图形单元之间；第二光透过区，设置于相邻所述第一图形单元之间，且位于所述第二光阻挡区的两侧；所述第二掩膜版还包括：第四光透过区，与所述第二光阻挡区的位置对应设置，且所述第四光透过区的宽度大于所述第二光阻挡区的宽度；第四光阻挡区，设置于相邻所述第二图形单元之间，且位于所述第四光透过区的两侧。