[发明专利]背侧照明式单光子雪崩二极管及包括其的成像传感器系统有效
申请号: | 201410446216.0 | 申请日: | 2014-09-03 |
公开(公告)号: | CN104779317B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 埃里克·A·G·韦伯斯特 | 申请(专利权)人: | 豪威科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L27/146 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人: | 齐杨 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请案涉及一种背侧照明式单光子雪崩二极管及一种包括其的成像传感器系统。一种单光子雪崩二极管SPAD包含安置于第一半导体层中的经n掺杂外延层。经p掺杂外延层在所述经n掺杂外延层上面在所述第一半导体层的背侧上。倍增结界定于所述经n掺杂外延层与所述经p掺杂外延层之间的界面处。倍增结经反向偏置到击穿电压以上以使得通过所述第一半导体层的所述背侧接收的光子在所述倍增结中触发雪崩倍增过程。经p‑掺杂护环区域植入于所述经n掺杂外延层中环绕所述倍增结。 | ||
搜索关键词: | 照明 光子 雪崩 二极管 包括 成像 传感器 系统 | ||
【主权项】:
一种单光子雪崩二极管SPAD,其包括:经n掺杂外延层,其安置于第一半导体层中;经p掺杂外延层,其形成于所述经n掺杂外延层上方在所述第一半导体层的背侧上,其中所述经p掺杂外延层覆盖所述第一半导体层的整个所述背侧;倍增结,其界定于所述经n掺杂外延层与所述经p掺杂外延层之间的界面处,其中倍增结经反向偏置到击穿电压以上以使得通过所述第一半导体层的所述背侧接收的光子在所述倍增结中触发雪崩倍增过程;及经p‑掺杂护环区域,其植入于所述经n掺杂外延层中环绕所述倍增结,其中所述经p掺杂外延层从所述第一半导体层的所述背侧覆盖整个所述经p‑掺杂护环区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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