[发明专利]一种低轨道航天器高压太阳电池阵二次放电防护方法有效
申请号: | 201410451763.8 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN104244547B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 史亮;李得天;汤道坦;柳青;赵呈选;陈益峰;秦晓刚;杨生胜;高原 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | H05F1/02 | 分类号: | H05F1/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心11120 | 代理人: | 付雷杰,仇蕾安 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明提供了一种低轨道航天器高压太阳电池阵二次放电防护方法,能够避免太阳电池阵表面不均匀带电现象,由此达到对其二次放电的防护;同时,透明导电复合薄膜具有较高的透过率,不影响太阳电池阵发挥其基本功能,并且具有良好的延展性、抗冷热冲击性能和耐辐射性能,使得透明导电复合薄膜具备良好的空间环境适应性,能够满足卫星设计寿命需求;透明导电复合薄膜在太阳电池阵上留有一定的余量,可使其适应低轨道剧烈的冷热交变环境而不发生开裂;在透明导电复合薄膜的安装的边缘留有出气通道,因薄膜与太阳电池阵中残留的空气因真空环境而损坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 轨道 航天器 高压 太阳电池 二次 放电 防护 方法 | ||
【主权项】:
一种低轨道航天器高压太阳电池阵二次放电防护方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、制作透明导电复合薄膜,具体为:将透明聚酰亚胺膜(1)作为基底材料,利用等离子体聚合方法在基底材料的一侧表面上制备硅氧烷膜(2),在所述硅氧烷膜(2)上利用磁控溅射方法制备氧化铟锡膜(3),形成透明导电复合薄膜;所述透明聚酰亚胺膜(1)的厚度为0.25μm;所述硅氧烷膜(2)的厚度为150nm;所述氧化铟锡膜(3)的厚度为10nm‑20nm;步骤2、将透明导电复合薄膜覆于并固定在太阳电池阵表面上,复合薄膜导电层朝向空间方向且与航天器结构地相连。
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