[发明专利]可动态调焦的激光直写式光刻系统有效
申请号: | 201410456304.9 | 申请日: | 2014-09-10 |
公开(公告)号: | CN104238285B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 刘玄博;孙明睿;甄万财;李雪 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
主分类号: | G03F7/207 | 分类号: | G03F7/207;G02B7/04 |
代理公司: | 北京中建联合知识产权代理事务所(普通合伙)11004 | 代理人: | 朱丽岩 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提出了一种可动态调焦的激光直写式光刻系统,包括用于产生激光光束的紫外激光器、沿激光光束传输方向依次设置的扩束整形单元、大范围调焦单元、动态调焦单元、X/Y振镜反射单元及f‑theta透镜组单元,所述大范围调焦单元包括沿Z向相对设置的第一反射镜及第二反射镜,所述与第二反射镜可沿Z向相对移动,所述动态调焦单元包括沿X向相对设置的前镜组、后镜组以及电机。本发明实现了X/Y振镜±5.5°范围与工作面X、Y方向上±50mm范围内位置的精确线性对应关系,以及透镜组一定范围内间距改变与激光束焦点Z向±5mm范围的精确对应关系,满足了激光直写式光刻工艺的精度要求。 | ||
搜索关键词: | 动态 调焦 激光 直写式 光刻 系统 | ||
【主权项】:
一种可动态调焦的激光直写式光刻系统,其特征在于,包括:用于产生激光光束的紫外激光器、沿激光光束传输方向依次设置的扩束整形单元、大范围调焦单元、动态调焦单元、X/Y振镜反射单元及f‑theta透镜组单元,所述大范围调焦单元包括沿Z向相对设置的第一反射镜及第二反射镜,所述第二反射镜、X/Y振镜反射单元及f‑theta透镜组单元可整体沿Z向相对于第一反射镜在30‑80mm距离范围内移动,所述动态调焦单元包括沿X向相对设置的前镜组、后镜组以及电机,所述前镜组可在电机的驱动下沿X向在相对于后镜组在 50‑60mm距离范围内移动,所述f‑theta透镜组单元的焦距为257mm,入瞳直径为15mm,入射光波长为355nm,视场角为11°,加工面积为100×100mm。
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