[发明专利]微机电反射体及用于制造微机电反射体的方法有效
| 申请号： | 201410457664.0 | 申请日： | 2014-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104252039B | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | J·赖因穆特 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;B81C1/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微机电反射体，其具有一个电极衬底、多个电极凹槽、至少一个扭转弹簧结构、一个载体衬底和一个反射体表面，所述电极衬底具有第一表面和与所述第一表面相对置的第二表面，在所述电极衬底的第一表面上布置有单晶硅层，所述多个电极凹槽从第二表面开设到所述电极衬底中，所述至少一个扭转弹簧结构构造在所述单晶硅层中在所述电极凹槽中的一个之上，所述载体衬底设置在所述电极衬底的第二表面上，所述反射体表面布置在所述单晶硅层上。在此，通过所述电极凹槽形成至少一个通过所述扭转弹簧结构可运动地支承在所述电极衬底中的第一电极和至少一个与所述载体衬底和所述单晶硅层机械固定地锚定的第二电极。此外，所述第一电极的和所述第二电极的电极面彼此平行地垂直于所述电极衬底的表面地布置。 | ||
| 搜索关键词： | 微机 反射 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微机电反射体，其具有：一个电极衬底(3)，所述电极衬底具有第一表面和与所述第一表面相对置的第二表面，在所述电极衬底的第一表面上布置单晶硅层(1)；多个电极凹槽(15)，其从第二表面开设到所述电极衬底(3)中；至少一个扭转弹簧结构(7)，其构造在所述单晶硅层(1)中在所述电极凹槽(15)中的一个之上；一个载体衬底(16)，所述载体衬底设置在所述电极衬底(3)的第二表面上；和一个反射体表面(R)，其布置在所述单晶硅层(1)上，其中，通过所述电极凹槽(15)形成至少一个通过所述扭转弹簧结构(7)可运动地支承在所述电极衬底(3)中的第一电极(M)和至少一个与所述载体衬底(16)和所述单晶硅层(1)机械固定地锚定的第二电极(F)，其中，所述第一电极(M)的和所述第二电极(F)的电极面彼此平行地垂直于所述电极衬底(3)的表面地布置。
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