[发明专利]一种在PTFE电路板上制作金属化孔的方法有效

专利信息
申请号: 201410462480.3 申请日: 2014-09-11
公开(公告)号: CN104244612B 公开(公告)日: 2017-06-27
发明(设计)人: 翟青霞;彭卫红;李金龙;林楠;姜翠红 申请(专利权)人: 深圳崇达多层线路板有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 深圳市精英专利事务所44242 代理人: 任哲夫
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及电路板生产技术领域,具体为一种在PTFE电路板上制作金属化孔的方法,包括内层电路制作、压合、钻孔、沉铜、全板电镀等工序,并且在内层电路制作时,在用于制作金属化孔的位置的外周制作嵌铜位。本发明通过在制作内层线路时,同时制作嵌铜位,使压合形成多层压合板并钻孔后,待制作金属化孔的孔,其外周具有多个嵌铜位,孔壁相当于镶嵌了铜,经沉铜和全板电镀在孔壁形成的电镀铜不仅与孔壁的PTFE基材结合,还与嵌铜位的铜结合,从而提高电镀铜与孔壁的结合力,防止电镀铜从孔壁脱落。即使金属化孔的孔深大于1mm,仍可保证孔壁的电镀铜不脱落。
搜索关键词: 一种 ptfe 电路板 制作 金属化 方法
【主权项】:
一种在PTFE电路板上制作金属化孔的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、在各覆铜基板上贴干膜或湿膜,然后依次进行曝光处理和显影处理,在各覆铜基板上形成内层图形;所述内层图形包括内层线路图形和嵌铜位图形,所述嵌铜位图形位于用于制作金属化孔的位置的外周;在同一金属化孔的外周,嵌铜位的数量大于或等于2时,相邻两嵌铜位之间的垂直距离小于1mm;所述嵌铜位呈环形或半环形;S2、对各覆铜基板进行蚀刻处理,以将内层图形以外的铜除去,在各覆铜基板上形成内层线路和嵌铜位;然后对各覆铜基板进行退膜处理,得各内层板;S3、将各内层板压合为一体,得多层压合板;S4、在多层压合板上钻孔并依次进行沉铜处理和全板电镀处理,得金属化孔。
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