[发明专利]一种PS版/CTP版用去污修复洁版液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410466750.8 申请日: 2014-09-15
公开(公告)号: CN104263562A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 王贵东;宋睿 申请(专利权)人: 合肥环照高分子材料厂
主分类号: C11D10/02 分类号: C11D10/02;C09D9/04
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 231200 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及PS/CTP印刷领域,具体涉及一种PS版/CTP版用去污修复洁版液及其制备方法,该洁版液由如下重量份的原料制成:去离子水60-80、硼酸10-12、磷酸2-5、槿树叶提取液5-8、椰油脂肪酸二乙酰胺1-3、氧化淀粉1-3、纳米胶体硅0.1-0.2、新戊二醇2-5、多孔硅酸钠1-2、助剂1-2;本发明洁版液原料中含有活性去污的槿树叶提取液,能高效的去除版面粘染的污染物,氧化淀粉能调节洁版液的粘性,使得污物更易被擦洗,并能防止划痕的产生,纳米胶体硅有修补划痕的功效,再结合其它成分,使得本发明洁版液在使用时绝不损伤图文,高效清洁的同时还能修复、保护版面,防止划痕再生,清洁后的版面不掉墨,网点清晰,印刷效果良好,增长印版寿命。
搜索关键词: 一种 ps ctp 去污 修复 洁版液 及其 制备 方法
【主权项】:
一种PS版/CTP版用去污修复洁版液及其制备方法,其特征在于,该洁版液由以下重量份的原料制成:去离子水60‑80、硼酸10‑12、磷酸2‑5、槿树叶提取液5‑8、椰油脂肪酸二乙酰胺1‑3、氧化淀粉1‑3、纳米胶体硅0.1‑0.2、新戊二醇2‑5、助剂1‑2;所述的助剂由以下重量份的原料制成:薄荷油1‑2、柠檬酸锌1‑3、单氟磷酸钠1‑2、聚谷氨酸1‑2、羧甲基淀粉钠3‑5、去离子水8‑12,制备方法为:先将柠檬酸锌、单氟磷酸钠、聚谷氨酸投入去离子水中,搅拌至混合物料完全溶解后,再加入羧甲基淀粉钠,继续搅拌至其完全溶解后,将溶液加热至50‑60℃,不断搅拌浓缩成膏状后冷却至室温,加入薄荷油,继续搅拌20‑30min,即得。
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