[发明专利]成像光学系统、图像投影光学系统和图像投影装置在审

专利信息
申请号: 201410466927.4 申请日: 2014-09-15
公开(公告)号: CN104460001A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 市村纯也 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G03B21/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了成像光学系统、图像投影光学系统和图像投影装置。成像光学系统使放大共轭侧和缩小共轭侧预定位置彼此共轭并且形成对这两个预定位置共轭的中间像。该光学系统包括:布置在比中间成像位置(IM)更远的放大共轭侧的作为第一透镜(L1)的放大侧正透镜,布置在比中间成像位置更远的缩小共轭侧的作为第三透镜的缩小侧正透镜(L3),及布置在这些正透镜之间的作为第二透镜的负透镜(L2)。条件5<ν2-ν1<80,5<ν2-ν3<80,0.03<N1-N2<1.0和0.03<N3-N2<1.0被满足,其中ν1、ν2和ν3表示第一、第二和第三透镜的材料的阿贝数,N1、N2和N3表示第一、第二和第三透镜的材料的折射率。
搜索关键词: 成像 光学系统 图像 投影 装置
【主权项】:
一种成像光学系统,被配置为使得放大共轭侧的预定位置和缩小共轭侧的另一预定位置彼此共轭并且被配置为形成对这两个预定位置共轭的中间像,所述光学系统包括:放大侧正透镜(L1),被布置在比形成所述中间像的中间成像位置(IM)更远的所述放大共轭侧并且朝着所述放大共轭侧凸起,所述中间成像位置位于两个点(P1、P2)之间,在这两个点处,进入所述光学系统的光束的轴外主光线与所述光学系统的光轴相交;缩小侧正透镜(L3),被布置在所述两个点之间且在比所述中间成像位置更远的所述缩小共轭侧并且朝着所述缩小共轭侧凸起;以及负透镜(L2),被布置在所述放大侧正透镜和所述缩小侧正透镜之间,所述光学系统的特征在于,当所述放大侧正透镜、所述负透镜和所述缩小侧正透镜分别被称为第一透镜(L1)、第二透镜(L2)和第三透镜(L3)时,满足以下条件:5<ν2‑ν1<805<ν2‑ν3<800.03<N1‑N2<1.00.03<N3‑N2<1.0其中ν1表示所述第一透镜的材料的阿贝数,ν2表示所述第二透镜的材料的阿贝数,ν3表示所述第三透镜的材料的阿贝数,N1表示所述第一透镜的材料的折射率,N2表示所述第二透镜的材料的折射率,并且N3表示所述第三透镜的材料的折射率。
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