[发明专利]一种WC-NiSiB激光熔覆材料的制备方法无效
申请号: | 201410468486.1 | 申请日: | 2014-09-12 |
公开(公告)号: | CN104195550A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 雷剑波;顾振杰;王植;王云山 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10;C22C19/03;C22C29/08 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 300160*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提出了一种改善镍基碳化钨激光熔覆涂层材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:选取45钢作为熔覆的基体,用600目砂纸打磨光洁,再用丙酮溶液清除干净基体表面油污和锈迹;步骤二:将质量百分比20%~80%碳化钨粉末与80%~20%镍硅硼粉末混合均匀,将混合粉末预置在45钢基体表面,粉末厚度3~4mm;步骤三:使用高功率半导体激光器熔覆,其中激光功率为3000W。所选用的光斑宽为8~15mm,焦距300。扫描速度为3mm/s,保护气体为氩气。 | ||
搜索关键词: | 一种 wc nisib 激光 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种改善镍基碳化钨激光熔覆涂层材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:选取45钢作为熔覆的基体,用600目砂纸打磨光洁,再用丙酮溶液清除干净基体表面油污和锈迹;步骤二:将质量百分比20%~80%碳化钨粉末与80%~20%镍硅硼粉末混合均匀,将混合粉末预置在45钢基体表面,粉末厚度3~4mm;步骤三:使用高功率半导体激光器熔覆,其中激光功率为3000W;所选用的光斑宽为8~15mm,焦距300;扫描速度为3mm/s,保护气体为氩气。
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