[发明专利]用于EB或EUV平版印刷的化学放大负性抗蚀剂组合物和图案化方法

摘要

提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

主权项

一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)能够产生酸催化剂的酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，所述作为组分(A)的聚合物在有或没有交联剂存在下，在酸催化剂作用下变为碱不溶性，其中包括通式(1)和(2)分别表示的重复单元(1)和(2)并且具有1,000至50,000的重均分子量的碱性聚合物PB用作组分(A)和(C)两者，基于抗蚀剂组合物中的碱性聚合物PB中的全部重复单元，通式(1)表示的重复单元(1)的含量为64mol％以上，通式(2)表示的重复单元(2)的含量为0.005～10mol％，其中A为单键或可被醚氧原子分隔的C1‑C10亚烷基，R1各自独立地为氢或甲基，R2各自独立地为C1‑C6烷基，B1、B2和B3各自独立地为单键，或为选自可包含醚氧原子的直链或支化C1‑C10亚烷基、可被醚氧原子分隔的二价C5‑C10脂环基、可被醚氧原子分隔的二价C6‑C14芳基，以及包括上述至少一种的组合的键基，Z1和Z2各自独立地为单键、‑CO‑O‑或‑O‑CO‑，条件是当B1、B2和B3包含醚氧原子时，Z1和Z2不形成‑O‑O‑结构，以及当Z2为‑CO‑O‑或‑O‑CO‑时，B3不为单键，R3和R4各自独立地为氢或可包含杂原子的一价C1‑C10烃基，条件是R3和R4不同时为氢，R3和R4可与和其连接的氮原子一起键合成环，以及当它们成环时，R3和R4为可以包含杂原子的二价C2‑C12烃基，B3可与R3或R4以及和其连接的氮原子一起键合成环，在这种情况下，含氮环为5‑元至7‑元的环，其排除孤对氮原子赋予含氮环芳香性的环结构，以及含氮环不是芳族环，a为0至4的整数，b为1至5的正整数，p为0或1，q为0，t为0至2的整数，条件是当q＝0时，与主链碳键合的B1中的原子为醚氧原子或形成芳族环的碳原子，以及当q＝0和Z1和Z2为单键时，B1、B2和B3的一个或多个应包含来源于亚烷基或芳基的至少两个连续的碳原子。