[发明专利]一种阵列基板的制备方法

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够避免在减少亮点缺陷的过程中，对阵列基板上过多薄膜层的破坏。所述方法包括形成像素电极层图案的同时形成将相邻两个像素电极层图案电连接的导通层。还包括，在形成有上述结构的基板表面形成光刻胶层；通过一次曝光显影工艺，形成第一光刻胶去除区域和光刻胶保留区域。其中，第一光刻胶去除区域对应导通层的位置；对第一光刻胶去除区域的导通层进行刻蚀，形成用于避免相邻两个像素单元的像素电极层图案电连接的隔断区域，最后在隔断区域内，形成与相邻两个像素电极层图案非电连接的金属线图案。

主权项

一种阵列基板的制备方法，包括形成多个呈矩阵形式排列的像素电极层图案的方法，在采用形成所述像素电极层图案的方法时，还形成将相邻两个所述像素电极层图案电连接的导通层，其特征在于，还包括：在形成有所述导通层的基板表面形成光刻胶层；通过一次曝光显影工艺，形成第一光刻胶去除区域和光刻胶保留区域，所述第一光刻胶去除区域对应所述导通层的位置，所述光刻胶保留区域对应形成有所述导通层的基板表面的其它区域；刻蚀所述第一光刻胶去除区域的所述导通层，形成用于避免相邻两个所述像素电极层图案电连接的隔断区域；并对所述光刻胶保留区域的光刻胶层进行剥离；在形成有上述结构的基板表面形成金属层；通过一次构图工艺在所述隔断区域内，形成与相邻两个所述像素电极层图案非电连接的金属线图案。