[发明专利]一种宽束离子注入机均匀性调节装置有效
| 申请号： | 201410475060.9 | 申请日： | 2014-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN104201081A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 张进学 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/04;H01J37/147 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强;李发军 |
| 地址： | 101100 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种宽束离子注入机均匀性调节装置。为了解决宽带束均匀性难以控制的问题，所述调节装置包括分析光栏、宽束平行透镜、多磁极调节机构和垂直扫描基片；所述宽束平行透镜设置在分析光栏的宽带离子流出口处，宽带离子流以一定张角进入宽束平行透镜；所述宽束平行透镜出口处设有调节通过束流偏转角度的多磁极调节机构，以改变离子束到达垂直扫描基片处束流水平密度分布，调节离子束水平方向束流分布的均匀性；所述垂直扫描基片设置在多磁极调节机构的出口处，以在垂直方向对束流匀速扫描，保证束流垂直方向的均匀性。本发明控制简单，调节效果好，能很好满足宽带离子注入机的束均匀性调节要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 均匀 调节 装置 | ||
【主权项】：
一种宽束离子注入机均匀性调节装置，其特征是，包括分析光栏（1）、宽束平行透镜（3）、多磁极调节机构（4）和垂直扫描基片（5）；所述宽束平行透镜（3）设置在分析光栏（1）的宽带离子流（2）出口处，宽带离子流（2）以一定张角进入宽束平行透镜（3）中；所述宽束平行透镜（3）的宽带离子流（2）出口处设有调节通过束流偏转角度的多磁极调节机构（4），以改变离子束到达垂直扫描基片（5）处束流水平密度分布，调节离子束水平方向束流分布的均匀性；所述垂直扫描基片（5）设置在多磁极调节机构（4）的宽带离子流（2）出口处，以在垂直方向对束流匀速扫描，保证束流垂直方向的均匀性。
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