[发明专利]电沉积法制作的表面增强拉曼光谱基底背景信号去除方法有效
| 申请号： | 201410477911.3 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN104215625B | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 滕渊洁;刘文涵 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 浙江英普律师事务所33238 | 代理人： | 王晓雯 |
| 地址： | 310014 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的电沉积法制作的表面增强拉曼光谱基底背景信号去除方法，利用电沉积反应增大基体表面的拉曼检测信号，并对留在其表面的杂质进行清洗。本发明对应用于电催化领域的纳米金属电极进行改性，使其具备SERS效应，从而应用于SERS领域，实现痕量分子的检测。另一方面从电解液的组合和电沉积后表面沉积物清洗的角度出发，选用比沉积物稳定常数更大的络合物，同时保证该络合物本身没有或仅有很小的干扰，解决电沉积法制备的SERS基底中拉曼背景干扰问题。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 法制 表面 增强 光谱 基底 背景 信号 去除 方法 | ||
【主权项】：
一种电沉积法制作的表面增强拉曼光谱基底背景信号去除方法，利用电沉积反应增大基体表面的拉曼检测信号，并对留在其表面的杂质进行清洗，其特征是包含以下步骤：(1)选择Ag2SO4和H2SO4作为电解液对导电基底进行电沉积反应；(2)对在电沉积反应后的基底用超纯水进行清洗；(3)对残留在基底表面的沉积物进行清洗，选择比沉积物稳定常数更大的S2O32‑络合物进行清洗，络合物本身对基体拉曼背应当没有或仅有少量干扰；(4)再次对基底用超纯水进行清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学，未经浙江工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410477911.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种适应于复杂表面的爬壁机器人吸盘装置
- 下一篇：一种炉灶灶芯
