[发明专利]光电转换元件无效

专利信息
申请号: 201410478643.7 申请日: 2014-09-18
公开(公告)号: CN104465818A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 藤本明;中西务;中村健二 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;陈松涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本公开内容提供了一种光电转换元件,包括层叠了第一金属层、第一半导体层、第二半导体层和第二金属层的光电转换层。第一金属层或第二金属层包含多孔金属薄膜,多孔金属薄膜具有穿过膜的多个开口。每一个开口都具有平均大于等于80nm2且小于等于0.8μm2的面积,多孔金属薄膜具有大于等于2nm且小于等于200nm的厚度。第二半导体层的带隙比第一半导体层的带隙小,具有与所述第一半导体层相反的极性,且位于距所述多孔金属薄膜5nm以内处。
搜索关键词: 光电 转换 元件
【主权项】:
一种光电转换元件,包括层叠了第一金属层、第一半导体层、第二半导体层和第二金属层的光电转换层;其中,所述第一金属层或所述第二金属层包含多孔金属薄膜,所述多孔金属薄膜具有穿过所述多孔金属薄膜的多个开口,每一个所述开口都具有平均80nm2到0.8μm2的面积,其中,包含80nm2和0.8μm2的面积,所述多孔金属薄膜具有2nm到200nm的厚度,其中,包含2nm和200nm的厚度,所述第二半导体层的带隙比所述第一半导体层的带隙小,所述第二半导体层的极性与所述第一半导体层的极性相反,并且所述第二半导体层位于距所述多孔金属薄膜5nm以内处。
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