[发明专利]一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法有效
| 申请号： | 201410479415.1 | 申请日： | 2014-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104198164B | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人： | 杨学明,顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。利用微透镜阵列对携带有硅片位置信息的波前进行检测，根据哈特曼波前检测原理，微透镜阵列的各个子单元将球面波波前分割，并成像于各自的焦面上。当硅片位于焦面位置时，微透镜阵列入射波前为平面波，衍射光斑位于微透镜阵列各个子单元的焦点上；当硅片存在离焦时，微透镜阵列入射波前为球面波，衍射光斑在微透镜阵列焦面上产生偏移。根据哈特曼波前检测原理，通过微透镜阵列对平面和球面波前成像光斑偏移，即可完成球面波前检测，从而完成硅片离焦测量。该检焦系统结构简单、精度和效率较高，适用于各类光刻机的高精度、实时性检焦测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 哈特曼波前 检测 原理 方法 | ||
【主权项】：
一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法，该检焦方法使用的检焦系统由光源及准直扩束系统(1)、前置透镜组(2)、被测硅片(3)、后置透镜组(4)、微透镜阵列(5)和CCD探测器(6)组成，其中，前置透镜组(2)和后置透镜组(4)构成一个4f系统，被测硅片(3)位于其共焦面上，其特征在于：光源及准直扩束系统(1)的出射平面波前经过前置透镜组(2)后入射到被测硅片(3)表面，经过被测硅片3)反射后，通过后置透镜组(4)和微透镜阵列(5)后，在CCD探测器中成像：当被测硅片(3)位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面时，微透镜阵列(5)对平面波前成像；当被测硅片(3)离焦时，微透镜阵列(5)对球面波前成像，根据CCD探测器(6)中成像光斑的变化情况，即可完成被测硅片(3)的检焦测量。
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