[发明专利]一种LED芯片有效

专利信息
申请号: 201410481862.0 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN104332546A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 义乌市运拓光电科技有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 322023 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种高光效、低光衰以及高封装良率LED芯片,其层结构依次包括衬底(1)、缓冲层(2)、N型层(3)、N型分别限制层(4)、发光区层(5)、P型分别限制层(6)、P型层(7)、P型欧姆接触层(8)、光穿透层(9)、二氧化硅层(10)、金属层(11),其特征在于:该芯片蚀刻成梯台结构并形成环状N型电极和P型电极,P型电极被环状N型电极包围,所述环状N型电极和所述P型电极与PCB板连接的焊锡面处于同一水平面。本发明由于芯片结构包括N型电极和P型电极,使得PN电极层面积最大,得到最大注入电流,提升发光效率。
搜索关键词: 一种 led 芯片
【主权项】:
一种LED芯片,其层结构依次包括衬底(1)、缓冲层(2)、N型层(3)、N型分别限制层(4)、发光区层(5)、P型分别限制层(6)、P型层(7)、P型欧姆接触层(8)、光穿透层(9)、二氧化硅层(10)、金属层(11),其特征在于:该芯片蚀刻成梯台结构并形成环状N型电极和P型电极,P型电极被环状N型电极包围,所述环状N型电极和所述P型电极与PCB板连接的焊锡面处于同一水平面;N型电极主要包括N型电极光穿透层ITO薄膜(191)和N型电极金属合金层(23),其中N型电极光穿透层ITO薄膜(191)为阶梯结构,阶梯结构下部与芯片两侧的N型层(3)暴露区连接;阶梯结构上部与N型电极金属合金层(23)、金属层(11)以及绝缘介质膜(16)连接,其中N型电极金属合金层(23)位于阶梯结构上部的上方,金属层(11)和绝缘介质膜(16)位于阶梯结构上部的下方;P型电极主要包括P型电极金属合金层(24)和P型电极光穿透层ITO薄膜(192),P型电极光穿透层ITO薄膜(192)上方与P型电极金属合金层(24)连接,P型电极光穿透层ITO薄膜(192)四周向下延伸至光穿透层(9)并且将金属层(11)和二氧化硅层(10)限制于其中;N型电极金属合金层(23)与P型电极金属合金层(24)位于同一水平面;所述环状N型电极和所述P型电极通过各自的PCB板与散热结构(26)连接。
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