[发明专利]一种温度敏感的有序多孔薄膜的构建在审

专利信息
申请号: 201410482400.0 申请日: 2014-09-19
公开(公告)号: CN105418960A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 冯霞;赖舒忆;李战;马绍玲;陈莉;赵义平 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: C08J9/28 分类号: C08J9/28;C08J5/18;C08L53/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300160*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种通过高温退火-选择性溶剂溶胀方法制备一种具有温度敏感的有序多孔薄膜材料。本发明以聚苯乙烯-b-聚N-异丙基丙烯酰胺(PS-b-PNIPAAm)嵌段共聚物为原料,四氢呋喃(THF)作为溶剂,通过旋涂或刮涂制备PS-b-PNIPAAm薄膜材料,高温退火后,浸泡在PNIPAAm的选择性溶剂中中,即可得到具有有序孔洞的薄膜材料,该薄膜材料在在多孔材料分离、吸附应用等方面将有较大应用潜力。
搜索关键词: 一种 温度 敏感 有序 多孔 薄膜 构建
【主权项】:
一种具有温度敏感的有序多孔薄膜材料的制备方法,该方法包括以下步骤:将PS‑b‑PNIPAAm溶解在THF中,经过搅拌和静置后,通过旋涂或者刮涂在干净的硅片、膜等传统材料表面,然后放入130‑150℃真空烘箱进行热退火,一定时间后缓慢降温,将高温退火处理后的样品在室温下干燥,放置于异丙醇或者乙醇中进行溶胀。溶胀后,室温干燥后得到温度敏感有序表面。
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