[发明专利]掩膜版、利用其形成的隔垫物及利用其制备隔垫物的方法在审
| 申请号： | 201410482872.6 | 申请日： | 2014-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104317160A | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 张洪术 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩膜版、利用其形成的隔垫物及利用其制备隔垫物的方法，涉及液晶显示装置制作中的曝光工艺技术领域，解决了在保证柱状隔垫物顶端尺寸的同时，减小底端尺寸以满足高分辨率的TFT-LCD设计要求的问题。本发明提供的所述掩膜版，包括掩膜版基板，所述掩膜版基板上设有透光区域和遮光区域；所述透光区域处设有菲涅耳波带片，所述菲涅尔波带片用于在玻璃基板上形成圆柱状隔垫物和/或倒锥状隔垫物。本发明主要用于液晶显示装置的生产中。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 利用 形成 隔垫物 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版基板，所述掩膜版基板上设有透光区域和遮光区域；所述透光区域处设有菲涅耳波带片，所述菲涅尔波带片用于在玻璃基板上形成圆柱状隔垫物和/或倒锥状隔垫物。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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