[发明专利]一种提高磁控溅射矩形靶膜厚均匀性的基板运动方法有效
| 申请号： | 201410487017.4 | 申请日： | 2014-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN104213093A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 杜晓松;郭攀;赵瑾珠;孙凤佩;袁欢;蒋亚东 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 成都华典专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 徐丰 |
| 地址： | 611731 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高磁控溅射矩形靶膜厚均匀性的基板运动方法，靶上有条形环状的刻蚀环，圆形基板面对所述矩形靶，在所述矩形靶两侧对称位置设置第一折返点1和第二折返点2之间往复运动，包括如下内容：圆形基板在第一折返点1和第二折返点2相距为D的距离长度之间同时进行匀速直线运动和匀速自转运动，且圆形基板由第一折返点1同时进行匀速直线运动和匀速自转运动到达第二折返点2的时长为第一时长t1；当圆形基板在第一折返点1或第二折返点2处时，圆形基板停留第二时长t2仅作匀速自转运动；调节第一时长t1和第二时长t2的比例，使得圆形基板的薄膜厚度均匀,进而实现了能够提高薄膜厚度均匀性的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 磁控溅射 矩形 靶膜厚 均匀 运动 方法 | ||
【主权项】：
一种提高磁控溅射矩形靶膜厚均匀性的基板运动方法，靶上有条形环状的刻蚀环，圆形基板面对所述矩形靶，在所述矩形靶两侧对称位置设置第一折返点1和第二折返点2之间往复运动，其特征在于，包括如下内容：圆形基板在第一折返点1和第二折返点2相距为D的距离长度之间同时进行匀速直线运动和匀速自转运动，且圆形基板由第一折返点1同时进行匀速直线运动和匀速自转运动到达第二折返点2的时长为第一时长t1；当圆形基板在第一折返点1或第二折返点2处时，圆形基板停留第二时长t2仅作匀速自转运动；调节第一时长t1和第二时长t2的比例，使得圆形基板的薄膜厚度均匀。
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