[发明专利]光掩模储放装置有效
申请号: | 201410490524.3 | 申请日: | 2008-07-07 |
公开(公告)号: | CN104267575B | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 陈信元;李智富;许继中;李星甫 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种光掩模储放装置,包括有底座和上盖。此光掩模储放装置包括有聚醚醚酮材料。一锁扣组件用以耦接底座和上盖。光掩模固定组件设置于上盖上,而光掩模支撑组件则设置于底座上,用以避免光掩模震动。此光掩模储放装置设计有通气孔结构使气体以360度的方式被喷入由底座与上盖所构成的光掩模置放空间。在通气孔结构中另有额外设计的粒子过滤器来防止微粒进入光掩模盒内,一密封衬垫设计于底座底板以提升底座与上盖密合时的气密性。本发明所提出的光掩模储放装置,藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象。 | ||
搜索关键词: | 光掩模储放 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模储放装置,用以供一光掩模来进行储放及/或运送,其特征在于该光掩模储放装置至少包括:一上盖组件,该上盖组件至少包括:一壳体,包括一端部,并具有聚醚醚酮材料;一上盖金属内垫,设置于该壳体上,该上盖金属内垫设有一凸部;以及一光掩模固定组件,具有聚醚醚酮材料,并耦接该上盖金属内垫,用以提供该光掩模在垂直方向上的震动阻尼,该光掩模固定组件至少包括:一光掩模固定部,具有聚醚醚酮材料,并用以接触于该光掩模;以及一支撑肋,具有聚醚醚酮材料,耦接于该光掩模固定部,并与该光掩模固定部一体成型,用以增加每一该光掩模固定组件的强度;一底座组件,与该壳体的该端部的一或更多表面相互耦合,以形成一光掩模储放空间来容置该光掩模,该底座组件至少包括:一底板结构,具有聚醚醚酮材料,以提供绝缘性;一底座金属压板,设置于该底板结构上,并与该上盖金属内垫结合而构成一密闭的金属屏蔽空间,以保护该光掩模免于静电放电;以及一密封衬垫,设置于该底板结构上,其中该密封衬垫包括有99.5%的非结晶聚合物PET和0.5%的PEDT/PSSH,以提供低化学析出性,该密封衬垫提供一接口于该底座组件和该上盖组件之间,以耦接该底座组件和上盖组件,该密封衬垫具有一沟槽,当该底座组件和该上盖组件相互耦接时,该上盖金属内垫的该凸部对位于该密封衬垫的该沟槽,而确保该光掩模储放空间的密闭性;以及至少一通气孔结构,形成于该底座组件中,包括设置于该底板结构上的一通气开口,其中至少一通气孔结构用以允许一气体来通过该通气开口,并以360度的方向来进入该光掩模储放装置的内部空间。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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