[发明专利]一种用于聚光系统的非成像二次反射镜有效
| 申请号： | 201410495798.1 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN104297826B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 程强;周正;柴家乐;宋金霖;吴昊 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/10 | 分类号： | G02B5/10 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于聚光系统的非成像二次反射镜，其通过确定二次反射镜的母线参数，使得其能够将入射到一次抛物面的平行于轴线的光反射后汇聚到接收器上并形成均匀分布的圆斑，其特征在于，该非成像二次反射镜为凸型的非成像二次反射镜或凹型的非成像二次反射镜，其中，所述凸型的非成像二次反射镜设置在聚光系统的初级抛物面聚光器的焦点的上方，其曲面母线方程为y′=-x-(y-L)ΓxΓ+y-L+(x-(y-L)ΓxΓ+y-L)2+1,]]>凹型的非成像二次反射镜设置在聚光系统的初级抛物面聚光器的焦点的下方，其曲面母线方程为y′=-L-y+xΓ(y-L)Γ+x-(L-y+xΓ(y-L)Γ+x)2+1.]]>本发明的二次反射镜用于聚光系统中，其对太阳光进行反射，可以实现聚光系统接收器的暗区消除并使接收器获得均匀的热流分布。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 聚光 系统 成像 二次 反射 | ||
【主权项】：
一种用于聚光系统的非成像二次反射镜，其通过确定二次反射镜的母线参数，使得其能够将入射到一次抛物面的平行于轴线的光反射后汇聚到接收器上并形成均匀分布的圆斑，从而实现聚光系统接收器的暗区消除并使接收器获得均匀的热流分布，其特征在于，该非成像二次反射镜为凸型的非成像二次反射镜或凹型的非成像二次反射镜，其中，所述凸型的非成像二次反射镜设置在聚光系统的初级抛物面聚光器的焦点的上方，其曲面母线方程为：其中，所述凹型的非成像二次反射镜设置在聚光系统的初级抛物面聚光器的焦点的下方，其曲面母线方程为：式中，上述各式中，L是初级抛物面的焦距，R是抛物面的开口半径，r是抛物面底部开口半径，a为接收器半径，x,y分别为方程的自变量和因变量，分别是非成像二次反射镜上任一点E的横坐标和纵坐标。
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