[发明专利]采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410497699.7 申请日: 2014-09-25
公开(公告)号: CN104313541A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 郭喜平;李轩;乔彦强 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C10/44;C23C28/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法,首先采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积不同厚度的Zr膜,然后采用Si-Y扩散共渗的方法在沉积Zr膜后的试样表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层。本发明解决了Nb基多元超高温合金高温抗性能差的技术难题,能够获得均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密的Zr-Y改性硅化物渗层。采用1250℃恒温氧化实验进行检测,共渗后试样经5~200h恒温氧化后的氧化膜致密,少见脱落,表明本发明所提供的渗层具有优异的高温抗氧化性能。本发明所制备的渗层均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密,同时具有操作方便、成本低廉等一系列优点,适于生产和应用。
搜索关键词: 采用 步法 nb 超高温 合金 表面 制备 氧化 zr 改性 硅化物渗层 方法
【主权项】:
一种采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr‑Y改性硅化物渗层的制备方法,其特征在于步骤如下:步骤1:采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积Zr膜,Zr膜厚度为0.2‑30μm;步骤2:将经步骤1处理后合金埋入装有渗剂粉末的坩埚内并压实、加盖密封,然后置于高温高真空可控气氛扩散渗炉中,在1000~1400℃热处理0.5~12h,获得Zr‑Y改性硅化物渗层;所述渗剂是将重量百分比为5~30%的Si粉,0.5~5%的Y2O3粉,1~8%的NaF粉和其余Al2O3粉混合后,在球磨机中球磨混合而成。
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