[发明专利]曝光装置用的GUI装置、曝光系统及曝光条件设定方法

摘要

本发明提供一种能够操作性良好地选择在圆形的基板上配置为矩阵状的区块，且能够设定曝光条件的曝光装置用的GUI装置、曝光系统以及曝光条件设定方法。在操作者通过操作部，向GUI装置的选择输入区域(210)输入希望的信息时，在包括基板外形(202)和多个区块(203)的初始画面上，以与基板外形(202)呈同心圆状的方式显示选择圆(204)，并且突出显示由应该设定曝光条件的多个选择区块(206)构成的选择区域(205)。

主权项

一种曝光装置用的GUI装置，该曝光装置以区块为单位，对形成在圆形的基板的表面上的光致抗蚀剂膜实施曝光处理，其特征在于，具有：显示部，其具有画面，操作部，其对显示部的画面进行操作，显示控制部，其对显示部的画面显示进行控制；显示控制部具有：初始画面显示部，其在显示部的画面上显示具有选择显示区域和选择输入区域的初始画面，所述选择显示区域包括基板外形以及对基板内进行划分而形成的多个区块，所述选择输入区域用于输入与选择圆相关的选择信息，选择圆显示部，其基于所述选择信息，以与基板外形呈同心圆状的方式，将选择圆显示在显示部的画面上，选择区块显示部，其将基于所述选择信息选择的选择区块突出显示在显示部的画面上，曝光条件输入显示部，其将曝光条件输入区域显示在显示部的画面上，所述曝光条件输入区域用于输入对选择区块实施曝光处理时的曝光条件；所述显示控制部利用所述选择圆显示部的功能和所述选择区块显示部的功能，通过一次的所述选择信息的输入，选择出与所述基板外形呈同心圆状配置的多个选择区块；作为与所述选择圆相关的所述选择信息，所述选择输入区域具有：用于输入与所述选择圆的大小相关的信息的输入区域，和用于输入与所述选择圆的内侧或外侧相关的信息的输入区域。