[发明专利]曝光装置、曝光方法以及装置制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置、曝光方法以及装置制造方法。一种曝光装置，包括控制器，所述控制器被配置为控制原件保持单元和基板保持单元的扫描，从而将第一图案形成区域曝光到第二图案形成区域上，以使得第一图案形成区域叠加在第二图案形成区域上，所述第二图案形成区域是经具有第二投影倍率的第二投影光学系统预先曝光在基板上的，所述第二投影倍率与所述第一投影倍率不同。尤其地，当在原件保持单元和基板保持单元之间的单次扫描中将第一图案形成区域扫描曝光到多个第二图案形成区域上时，所述控制器基于第二图案形成区域的状态或者形成在原件上的图案的状态在多个第二图案形成区域间改变原件保持单元或基板保持单元的操作。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置通过具有第一投影倍率的第一投影光学系统将在原件上形成的图案曝光到基板上作为第一图案形成区域，该曝光装置包括：原件保持单元，被配置为保持所述原件；基板保持单元，被配置为保持所述基板；及控制器，被配置为控制原件保持单元和基板保持单元的扫描，从而将多个第一图案形成区域曝光到通过具有不同于第一投影倍率的第二投影倍率的第二投影光学系统预先形成在所述基板上的多个第二图案形成区域上，其中所述多个第一图案形成区域叠加在所述多个第二图案形成区域上，其中所述控制器被配置为：当在原件保持单元和基板保持单元的单次扫描中将所述多个第一图案形成区域扫描曝光到所述多个第二图案形成区域上的时候，基于形成在所述基板上的所述多个第二图案形成区域的形状或者形成在原件上的图案的形状，针对所述多个第二图案形成区域中的每个第二图案形成区域改变原件保持单元的操作，其中，改变原件保持单元的操作包括改变以下中的至少一个：扫描速度，扫描方向，扫描位置，以及相对于与第一投影光学系统的光轴方向垂直的平面内的扫描方向的角度，其中所述第一投影光学系统被配置为将所述多个第一图案形成区域曝光到所述多个第二图案形成区域上。