[发明专利]一种掩膜板及取向膜摩擦方法有效
| 申请号： | 201410504758.9 | 申请日： | 2014-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN104280940B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 胡伟;朱亚文;楼钰;莫再隆;朴承翊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板及取向膜摩擦方法，掩膜板包括至少一个垫板；其中，垫板的一面为水平面，另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形；垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离，用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板的非显示区域，使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平，从而可以避免在对取向膜进行摩擦时，由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤，从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差，以及造成取向膜的取向异常，进而保证显示产品的显示均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 取向 摩擦 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖所述基板的非显示区域；其特征在于：所述掩膜板包括至少一个垫板；其中，所述垫板的一面为水平面，另一面至少具有与覆盖位置处的所述非显示区域的部分图形相匹配的图形；所述垫板在所述垫板具有图形的一面与所述基板接触位置处的厚度等于所述接触位置处所述非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离。
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