[发明专利]一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液有效
| 申请号： | 201410505704.4 | 申请日： | 2014-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN104263248A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 顾忠华;潘国顺;龚桦;邹春莉;罗桂海;王鑫;陈高攀 | 申请（专利权）人： | 深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人： | 哈达 |
| 地址： | 518108 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液，属于微电子辅助材料及超精密加工工艺技术领域。该抛光液包含磨粒、氧化剂、去离子水、抑制剂、络合剂和硅溶胶稳定剂；该抛光液的pH值为5～7。本发明能够在低下压力(1psi以下)条件下实现铜抛光的高去除速率及高的表面精度，抛光后表面颗粒残留和离子污染少。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 低下 压力 弱酸 抛光 | ||
【主权项】：
一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液，其特征在于，该抛光液包含磨粒、氧化剂、去离子水、抑制剂、络合剂和硅溶胶稳定剂；该抛光液的pH值为5～7，低下压力为小于等于1psi的抛光压力；该抛光液的各组分配比为：![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院，未经深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410505704.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
