[发明专利]一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜无效
| 申请号： | 201410508514.8 | 申请日： | 2014-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN104297820A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 匡尚奇;王珣;金春水 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜，属于极紫外光刻领域。该多层膜在保证13.5nm处的反射率损失不大的前提下，使带外波段的反射率、多层膜氧化及表层碳污染沉积得到有效的抑制。该多层膜依次包括：基底、多个层周期的Si层/Mo层、光谱纯化层、Mo层、光谱纯化层及保护层。本发明在不改变膜系的外形，不增加光学元件，也不增加额外的加工步骤的基础上，制作光谱纯化层及保护层，在反射率损耗可以忽略的情况下，通过抑制带外波段、抑制反射层的氧化和碳污染层的沉积，提高光刻系统的成像质量和光刻的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 紫外 光谱 纯度 氧化 多层 | ||
【主权项】：
一种提高了极紫外光谱纯度及抗氧化性的多层膜，其特征在于，该多层膜依次包括：基底、多个层周期的Si层/Mo层、光谱纯化层、Mo层、光谱纯化层及保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410508514.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：单柄双控恒温恒压龙头
- 下一篇：单阀芯式多路换向阀
