[发明专利]中空孔形成用刻划轮及中空孔形成方法在审
| 申请号： | 201410510747.1 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN104724919A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 浅井义之;宫川清文;中垣智贵;吉泽庆;小笠原规幸 | 申请（专利权）人： | 三星钻石工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B33/10 | 分类号： | C03B33/10 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本大阪府*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种中空孔形成用刻划轮及中空孔形成方法，能使在形成中空孔时所需的外力较小，且于内周缘不产生微小的凹凸或贝壳状缺口的漂亮的状态下形成中空孔，且水平裂纹较小。且使用如下的中空孔形成用刻划轮，形成闭锁曲线状的刻划线之后，借由进行贯通而形成中空孔。该中空孔形成用刻划轮，是沿圆盘状刻划轮的刃前端棱线以既定间隔形成有多个沟槽；该沟槽的底部，在该刃前端棱线的接面内，于相对于该刃前端棱线倾斜既定角度θ1的方向延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 形成 刻划 方法 | ||
【主权项】：
一种中空孔形成用刻划轮，其特征在于：沿圆盘状刻划轮的刃前端棱线以既定间隔形成有多个沟槽；该沟槽的底部，在该刃前端棱线的接面内，于相对于该刃前端棱线倾斜既定角度θ1的方向延伸。
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