[发明专利]高精度多台阶微透镜阵列的制作方法

摘要

本发明涉及一种高精度多台阶微透镜阵列的制作方法,该方法首先在基底上等间隔制作出初始深度的台阶；然后再在各初始深度的台阶上、以及各台阶之间的间隔上，进行刻蚀，形成设定深度的台阶，本方法不但对操作者和操作设备的制作精度要求相对较低，成品率较高，而且可以省去大量的刻蚀时间，具有较大的经济效益。

主权项

一种高精度多台阶微透镜阵列的制作方法，其特征在于，首先在基底上等间隔制作出初始深度的台阶；然后再在各初始深度的台阶上、以及各台阶之间的间隔上，进行刻蚀，形成设定深度的台阶；微透镜的所有台阶深度为d1、d2、d3、……、dn；该方法的步骤如下：1)，在基底上制作出间隔设置的第一组台阶：a)，在基底上刻蚀出一系列间隔设置、深度为d1的台阶；b)，保护达到设定深度为d1的台阶，对其余的台阶进行进一步刻蚀，形成深度为d3的台阶；c)，保护达到设定深度为d3的台阶，对其余的台阶进行进一步刻蚀，依次类推，直至刻蚀出第一组所有的台阶d1、d3、d5、……、dn；2)，在第一组台阶之间制作出第二组台阶：d)，保护刻蚀好的第一组台阶；在第一组台阶之间刻蚀出一系列深度为d2的台阶；e)，保护达到设定深度为d2的台阶，对其余的台阶进行进一步刻蚀，形成深度为d4的台阶；f)，保护达到设定深度为d4的台阶，对其余的台阶进行进一步刻蚀，依次类推，直至刻蚀出第一组所有的台阶d2、d4、d6、……、dn‑1。