[发明专利]感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板有效
| 申请号： | 201410519874.8 | 申请日： | 2009-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN104282360B | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 山崎宏 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G03F7/20;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 金鲜英,何杨 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板。本发明提供一种感光性导电膜，其特征在于，具备支撑膜；设置于该支撑膜上并含有导电性纤维的导电层；设置于该导电层上的感光性树脂层。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 导电 形成 方法 图形 以及 膜基板 | ||
【主权项】：
一种转印用感光性导电膜，其特征在于，具备：支撑膜；设置于该支撑膜上并含有导电性纤维的导电层；设置于该导电层上的、具有碱显影性的感光性树脂层，所述感光性树脂层含有光聚合引发剂，所述光聚合引发剂包含1,2‑辛烷二酮‑1‑[4‑(苯基硫代)苯基]‑2‑(O‑苯甲酰基肟)，所述转印用感光性导电膜用于按照所述感光性树脂层密合于基板上的方式进行转印。
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